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单片清洗/去胶/刻蚀
产品描述
(1)产品满足半导体超声喷涂光阻工艺生产需要,单元模块环绕 Robot 设计,可选配多种喷胶功能部件,满足半导体高端封装/MEMS/光学模组/柔性基板/不规则基材等不同喷涂光阻工艺生产的客户需求。(2)适用于2、4、 6 、8 、 12 英寸晶圆≤500mm 方片等产品。(3)基材:硅晶圆、玻...
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